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塑料微流控芯片的注塑成型

文章來源:http://workforcesoftware.com.cn/news/13.html 發(fā)表時(shí)間:2018-07-14
塑料微流控芯片的注塑成型宋滿倉劉瑩祝鐵麗杜立群2,王敏杰劉沖2(1.大連理工大學(xué)模塑制品教育部工程研究中心,大連116023;2.大連理工大學(xué)微納米技術(shù)及系統(tǒng)遼寧省重點(diǎn)是一種典型的微流控芯片,外形整體鑲塊3置于定模鑲塊4內(nèi),可使塑料熔體直接沖擊微尺寸長(zhǎng)76. 5mm;芯片上帶有細(xì)加工鑲塊上的微突起,且推桿不會(huì)在芯片微通道一(b)。芯片材料為PMMA.由于樣品的分離、檢測(cè)是沿在開模的瞬間,使微通道從定模鑲塊2中順利脫出,避著“十字”形微通道的縱向進(jìn)行,所以本文將重點(diǎn)研究免在推出時(shí)拉傷微通道。
微流控芯片(microfluidicchip),又稱芯片,該注塑成型模具型腔由定模鑲塊2、動(dòng)模鑲塊4及微細(xì)加工鑲塊3組成。成型芯片微通道的微細(xì)加工鑲塊3配合于定模鑲塊2內(nèi)且與之連接,其上微凸起結(jié)構(gòu)用于成型芯片微通道;微細(xì)加工鑲塊3與動(dòng)模鑲塊4之間形成型腔。
5一動(dòng)模板;6―推桿模具設(shè)計(jì)裝配圖復(fù)制不完全這種缺陷會(huì)影響后續(xù)的芯片鍵合以及取樣液體的電泳分離,對(duì)于微流控芯片來說應(yīng)力求避免,也是微流控芯片注塑成型的主要難點(diǎn)。
微通道復(fù)制不完全1.2模具制造由可知,成型微通道必須在模具型芯上加工出寬80pm、高50pm的矩形截面凸起。顯然利用常規(guī)的加工方法難以加工出來,因此微流控芯片注塑模具制造的核心問題是微細(xì)加工鑲塊的制造。本文采用微細(xì)加工中常用的UV1IGA技術(shù)制備,即通過微電鑄在鎳板上生長(zhǎng)出鎳微結(jié)構(gòu),制備出的微細(xì)加工鑲塊如所示M.微細(xì)加工鑲塊對(duì)于不同規(guī)格或形狀的微流控芯片,均可以依照上述方法進(jìn)行模具設(shè)計(jì)與制造,為一種“雙十字”
微流控芯片注塑成型產(chǎn)品,左側(cè)為一光板,在其上加工出儲(chǔ)液池后,與右側(cè)具有微通道的芯片鍵合在一起,形成一完整的微流控芯片。這種設(shè)計(jì)使得形成微流控芯片的兩部分來自同一種塑料、同一種成型方式,更有利于后續(xù)的鍵合工作。
微流控芯片宏觀呈一平板狀,由于其上存在微通道,增加了成型的不確定性。在注塑成型試驗(yàn)中發(fā)現(xiàn),微流控芯片產(chǎn)生了一種很明顯的成型缺陷,即芯片的微通道復(fù)制不完全(出現(xiàn)圓角),如所示為電子顯微鏡拍攝的微通道截面放大圖,其他如縮痕、翹曲等缺2.2微通道復(fù)制不完全成因分析與數(shù)值模擬微通道復(fù)制不完全的產(chǎn)生,主要是由于所成型微通道型芯的尺寸遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于基體型腔的尺寸,在微通道處熔體流動(dòng)狀態(tài)復(fù)雜,熔體溫度、注射速度和注射壓力等損失較大,熔體充填的阻力加大,會(huì)出現(xiàn)滯流現(xiàn)象。
滯流現(xiàn)象導(dǎo)致微通道處熔體的充填始終落后于芯片其他部分的充填,當(dāng)芯片其他部分充填結(jié)束時(shí),微通道還未完全充填,從而產(chǎn)生微通道復(fù)制不完全的成型缺陷。
滯流現(xiàn)象可結(jié)合模擬結(jié)果加以分析。
為Moldflow軟件模擬填充時(shí)間結(jié)果云圖,為熔體速度3D結(jié)果云圖。為得到理想的模擬結(jié)果,首先定義模型網(wǎng)格密度,微通道附近的網(wǎng)格邊長(zhǎng)設(shè)為0.08mm,芯片整體的網(wǎng)格邊長(zhǎng)設(shè)為1mm.劃分完成后的網(wǎng)格模型,還要通過網(wǎng)格修復(fù)工具修復(fù)網(wǎng)格,使網(wǎng)格匹配率達(dá)到85以上,最大縱橫比限制到10以下。從中可以明顯看到熔體前沿在微通道處出現(xiàn)滯流,從中可以觀察到熔體在微通道的速度明顯落后于其他區(qū)域,也就是說在微通道處熔體流動(dòng)減慢,料流首先充填基體部分,當(dāng)基體部分充滿以后在注射壓力的持續(xù)作用下才充填微通道,如所示。
模擬填充時(shí)間結(jié)果云圖陷通過調(diào)整注塑成型工藝參數(shù)較為客易解決。微通道hi置在非微通道-側(cè)平面邊緣,充模時(shí)熔體除沿著芯片(a)是熔體充模流動(dòng)截面示意圖,由于澆口設(shè)可視化觀察系統(tǒng)角在觀察視場(chǎng)中呈現(xiàn)為暗的區(qū)域,即陰影部分。在微通道顯微平面圖片上,兩個(gè)外邊沿之間的距離代表了微通道的開口寬度,兩個(gè)內(nèi)邊沿之間的距離代表了微通道的底部寬度,如1所示。
時(shí),熔體流動(dòng)前沿平穩(wěn);而當(dāng)熔體接觸到微通道時(shí),可經(jīng)型腔表面進(jìn)行二次反射,因此塑件微通道的開口圓以看到陰影部分發(fā)生變化,后沿在微通道處變寬,并有熔體充模流動(dòng)分析長(zhǎng)度方向流動(dòng)外,同時(shí)會(huì)在此截面內(nèi)向微通道方向流動(dòng),與低溫模具壁面接觸在微通道處形成冷凝層,如(b)所示。由于在模具型腔微凸起拐角處熔體表面張力的存在,需要更大壓力才能完整復(fù)制。與此同時(shí),料流前鋒在微通道處會(huì)先行冷卻,甚至凝固。微通道的存在不但增加了熔體的充填難度,同時(shí)也加快了熔體的冷卻速度。PMMA本身熔體黏度較高,冷卻速率較快,微通道處的復(fù)制更為困難。
2.3微通道復(fù)制不完全成因可視化研究為了對(duì)上述的數(shù)值模擬和理論分析加以驗(yàn)證,設(shè)計(jì)制造了一套可視化模具,對(duì)微流控芯片的注塑成型過程進(jìn)行了可視化觀察。所示為設(shè)計(jì)的利用反射光進(jìn)行可視化觀察的模具及光路安排。依照觀察微通道或觀察全景的需要,可分別采用同軸照明長(zhǎng)距離顯微鏡或微距鏡頭與高速攝像機(jī)相連。
如0所示,當(dāng)采用同軸照明長(zhǎng)距離顯微鏡觀察微通道處的充填時(shí),照明光線為垂直入射。在塑料熔體與模具型腔完全接觸的地方,入射光線經(jīng)型腔表面反射后,沿原路返回,在觀察視場(chǎng)中呈現(xiàn)為亮的區(qū)域;在塑料熔體與模具型腔未接觸的地方,入射光線首先在塑料熔體與空氣的界面上發(fā)生反射與折射,折射光又圖U光反射觀察方式得到的微通道充填圖像運(yùn)用可視化技術(shù)可以明顯地觀察到熔體在微通道處的滯流現(xiàn)象,如2所示,圖中的陰影部分顯示微通道處熔體前沿的流動(dòng)狀況。在熔體未到達(dá)微通道處表1因素水平表因素模具溫度t/C注射速度3工藝參數(shù)優(yōu)化后的微通道為定量研究微通道復(fù)制的情況,將微通道設(shè)計(jì)寬度與實(shí)際開口寬度的比值定義為微通道復(fù)制度,通過注塑試驗(yàn)來研究各注塑工藝參數(shù)對(duì)微通道復(fù)制度的影響。為獲得優(yōu)質(zhì)的參數(shù),這里選用正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)法。為分析各注塑成型工藝參數(shù)對(duì)成型質(zhì)量的影響,安排了一系列的單因素試驗(yàn),以考察各工藝參數(shù)的取值對(duì)復(fù)制度的影響趨勢(shì),確定各工藝參數(shù)的取值范圍。
微通道復(fù)制不完全的影響因素有很多,也很復(fù)雜。
根據(jù)正交試驗(yàn)挑因素的原則,排除人為及環(huán)境因素等不可控因素和固定用量因素,依照單因素的試驗(yàn)結(jié)果,考慮較為可取的影響因素為注射壓力、注射速度、熔體溫度和模具溫度4個(gè)因素,取微通道復(fù)制度為考察特性指標(biāo)。各因素水平表見表1.由于微通道在縱向方向較長(zhǎng),試驗(yàn)時(shí)首先沿縱向分別間隔10mm選取3個(gè)截面進(jìn)行開口寬度的考察,經(jīng)檢測(cè)尺寸一致性較好。本文選取其中的一個(gè)截面為例,正交試驗(yàn)的安排、數(shù)據(jù)的記錄及計(jì)算結(jié)果均列于表2中。從結(jié)果(極差R值)中可以看出,4個(gè)因素中,模具溫度是影響微通道復(fù)制度的決定性因素,注射速度和熔體溫度是次要因素,而注射壓力相對(duì)其他因素影選取因素的水平與要求的指標(biāo)有關(guān)。要求的指標(biāo)即微通道復(fù)制度越大越好,應(yīng)該取使指標(biāo)值增加的水平,即各因素中使微通道復(fù)制度最大的那個(gè)水平。所以,把各因素的好水平簡(jiǎn)單地組合起來就是較好的生產(chǎn)條件,即模具溫度取水平3、注射速度取水平1、注射壓力取水平1、熔體溫度取水平3.在此基礎(chǔ)上,試驗(yàn)時(shí)再加以適當(dāng)調(diào)整,優(yōu)質(zhì)的工藝參數(shù)組合是:模具溫度95°C,注射速度192mm/s,注射壓力120MPa,熔體溫度240°C,保壓壓力96MPa,保壓時(shí)間10s.最終得到的芯片微通道如3所示,微通道復(fù)制度達(dá)到90%.經(jīng)鍵合和電泳試驗(yàn),滿足使用要求。后續(xù)的試驗(yàn)表明,對(duì)于其他具有不同寬度微通道的微流控芯片,使用上述工藝條件也可獲得滿意的效果。目前,通過注塑成型生產(chǎn)的微流控芯片已批量推向市場(chǎng)。
響力較差,但必須維持在——個(gè)較高的水平。bode柯blishingH<本文針對(duì)微流控芯片的具體結(jié)構(gòu)特點(diǎn),設(shè)計(jì)制造明顯的拖后現(xiàn)象,從而直觀地觀察到滯后現(xiàn)象。這個(gè)試驗(yàn)結(jié)果驗(yàn)證了熔體在微通道處滯流現(xiàn)象的存在。

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